أنوا غسول المسام العميق بهارتليف وكويرسيتينول – 150 مل
السعر الأصلي هو: 80.50.
48.30السعر الحالي هو: 48.30.
Delivery time: 2 hrs
ودّعي المسام المسدودة والشوائب مع المنظف العميق من “أنوا”. يتميز هذا الغسول بتركيبة مبتكرة تحتوي على مستخلص نبتة “الهارتليف” والكويرسيتينول المستخلص منها، ليوفر تنظيفاً فائقاً للمسام مع تهدئة البشرة الحساسة في آن واحد. بفضل احتوائه على حبيبات دقيقة جداً (BHA)، يعمل الغسول على تقشير البشرة بلطف وإزالة الدهون الزائدة والرؤوس السوداء، ليترك وجهكِ نظيفاً، ناعماً، ومنتعشاً دون الشعور بجفاف أو شد في الجلد.
الوصف
الوصف
يعتبر غسول Anua Pore Deep Cleansing الخيار المثالي لأصحاب البشرة الدهنية والمختلطة التي تعاني من انسداد المسام.
أبرز المميزات والفوائد:
-
تنظيف عميق للمسام (Deep Clean): ثبت سريرياً قدرته على إزالة 98% من الشوائب والدهون العالقة داخل المسام.
-
تهدئة البشرة (Heartleaf 33%): يحتوي على تركيز عالٍ من مستخلص الهارتليف الذي يقلل من التهيج والاحمرار، مما يجعله آمناً للبشرة المعرضة لحب الشباب.
-
تقشير لطيف (BHA/Salicylic Acid): يساعد في إذابة الخلايا الميتة والرؤوس السوداء بفاعلية، مما يحسن من ملمس البشرة ومظهرها العام.
-
ترطيب وحماية: معزز بـ 5 أنواع من حمض الهيالورونيك، مما يضمن بقاء البشرة رطبة ومرنة حتى بعد التنظيف العميق.
-
رغوة كريمية كثيفة: يتحول إلى رغوة غنية تغلغل داخل الجلد لتنظيفه دون التسبب في تهيجه.
إرشادات الاستخدام:
-
ضعي كمية مناسبة على يديكِ المبللتين وافركيها حتى تتكون الرغوة.
-
دلكي الوجه بلطف بحركات دائرية، مع التركيز على المناطق التي يكثر فيها الدهون مثل الأنف والذقن.
-
اشطفي الوجه جيداً بالماء الفاتر.
-
يُنصح باستخدامه ضمن روتينك اليومي صباحاً ومساءً.
معلومات المنتج:
-
الماركة: أنوا (Anua) – صنع في كوريا.
-
المكونات الأساسية: هارتليف (33%)، كويرسيتينول، ساليسيليك أسيد (BHA).
-
نوع البشرة: الدهنية، المختلطة، والمعرضة لحب الشباب.
-
الحجم: 150 مل.
معلومات التسليم
- Standard and Express delivery services are available for all items.
- Shipping costs are calculated at the checkout page (after delivery option & destination confirmation).
- Tracking is available for all delivery options.
- Items are delivered during standard business hours.







المراجعات
لا توجد مراجعات بعد.